GHW-12Z ENI 射频等离子体发生器
ENI GHW-12Z射频等离子体发生器详解 产品概述 ENI GHW-12Z是一款高频射频等离子体发生器,由ENI公司设计制造。它能够产生高纯度、高密度的等离子体,广泛应用于半导体制造、材料科学、表面处理等领域。 产品特点 高功率输出:提供稳定的高功率输出,确保等离子体的产生和维持。 频率可调:频率范围宽,可适应不同的工艺需求。 匹配网络:内置匹配网络,保证射频功率的有效传输。 过流保护:具有过流保护功能,保护设备安全。 水冷系统:采用水冷系统,有效散热。 产品参数 输出功率:12kW 频率范围:13.56MHz 输出阻抗:50Ω 反射功率:≤1% 控制方式:数字控制,可通过计算机或触摸屏进行操作 产品规格 冷却方式:水冷 工作环境:室温,干燥 系列 GHW-12Z属于ENI公司的高功率射频发生器系列。ENI公司是全球领先的射频功率放大器和射频发生器制造商,其产品广泛应用于工业、科研等领域。 特征 高稳定性:输出功率稳定,等离子体参数稳定。 模块化设计:模块化设计,易于维护。 远程控制:支持远程控制,方便操作。 作用 产生等离子体:通过高频电场激发气体产生等离子体。 材料处理:用于材料的切割、蚀刻、清洗、沉积等。 薄膜制备:用于制备各种薄膜材料。 表面处理:用于表面改性、表面清洁等。 用途 半导体制造:用于硅片加工、芯片制造等。 平板显示:用于液晶显示屏、OLED显示屏制造。 太阳能电池:用于太阳能电池的制备。 生物医学:用于生物医学材料的表面处理。 应用领域 半导体行业 光电子行业 新能源行业 生物医学工程 优势 高功率:适用于大面积等离子体处理。 高稳定性:保证工艺的重复性。 灵活配置:可根据不同工艺需求进行配置。 总结 ENI GHW-12Z射频等离子体发生器是一款高性能、高可靠性的等离子体设备。它在半导体制造、材料科学等领域有着广泛的应用。










