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PFEIFFER EVR116 是一款高精度、电动驱动的真空控制阀，由全球知名的真空技术专家Pfeiffer Vacuum（普发真空）制造。作为其先进真空系统解决方案的一部分，PFEIFFER EVR116 专为精确控制真空系统中的压力而设计，通过调节气体流量（上游控制）或系统导纳（下游控制）来实现。该控制阀集成有电机驱动电子设备，能够将模拟电压或通过数字接口（如RS232）接收到的控制信号转换为精确的阀门位置，从而实现对真空度和气体引入量的精细控制。
PFEIFFER EVR116 以其宽广的控制范围和高气体吞吐量而闻名，适用于从高真空到粗真空的各种应用。其紧凑的设计和DN 16 ISO-KF连接法兰使其易于集成到各种真空管道和系统中。阀门采用不锈钢阀体和阀针，以及FPM密封，确保了在高真空环境下的卓越洁净度和耐腐蚀性。PFEIFFER EVR116 通常与Pfeiffer Vacuum的RVC 300控制单元或其他兼容的控制设备配合使用，以实现自动化、精确的压力控制，这对于半导体制造、薄膜沉积、科研实验和分析仪器等对真空环境要求极高的应用至关重要。
PFEIFFER EVR116
技术规格
主要特点和优势
PFEIFFER EVR116 真空控制阀在真空技术领域提供了显著的特点和优势，使其成为精密压力控制的理想选择。
高精度和宽广的控制范围： PFEIFFER EVR116 能够实现从 mbar l/s 到 1250 mbar l/s 的极宽气体流量控制范围，并且可以在低至 mbar 的真空环境下稳定工作。这种卓越的控制精度和宽广的动态范围使得它适用于各种对压力控制要求严苛的应用，无论是微量气体引入还是大流量调节，都能保持出色的性能。
集成电机驱动电子设备： 阀门内部集成了电机驱动电子设备，可以直接接收模拟电压信号（0-10 V DC）或通过数字接口（如RS232）进行控制。这种集成设计简化了系统布线和外部控制电路，提高了系统的紧凑性和可靠性。电机驱动确保了阀门位置的精确性和可重复性，从而实现对真空压力的稳定和快速调节。
多功能控制方式： PFEIFFER EVR116 支持多种控制方式，包括模拟电压控制、集成接口控制以及可选的RS232接口控制。这种灵活性使得阀门能够轻松集成到各种自动化控制系统和实验室环境中，无论是手动调节还是通过PC进行编程控制，都提供了便利的接口。
优异的洁净度和耐腐蚀性： 阀门主体采用高质量的不锈钢材料（如1.4435和1.4301），阀针采用不锈钢，并配备FPM密封件和氟塑料计量套。这些材料的选择确保了在真空环境下的极低放气率和对腐蚀性气体的良好耐受性，从而保证了真空系统的洁净度和长期稳定性。
紧凑设计与易于集成： PFEIFFER EVR116 采用DN 16 ISO-KF标准连接法兰，这是一种广泛使用的真空连接标准，使其能够轻松与现有真空管道和组件集成。其紧凑的尺寸和低重量设计也方便了在空间受限的应用中的安装。
内置诊断功能： 阀门内置了传感器，可以实时指示阀门的开、关和运动状态。这些诊断信息对于系统监测、故障排除和确保操作安全至关重要，提升了系统的可靠性和可维护性。
PFEIFFER EVR116
应用领域
PFEIFFER EVR116 真空控制阀凭借其高精度、宽范围和可靠性，在众多对真空环境有严格要求的工业和科研领域中发挥着关键作用。
半导体制造： 在半导体芯片的制造过程中，如薄膜沉积（PVD、CVD）、刻蚀（Etching）和离子注入等，精确的气体流量和腔室压力控制至关重要。PFEIFFER EVR116 被广泛用于精确引入工艺气体或控制反应腔室压力，确保工艺的稳定性和晶圆的质量。
光学涂层： 在生产高精度光学元件、镜头、镜片等需要进行薄膜涂层（如抗反射膜、滤光片）的应用中，真空镀膜设备的腔室压力和反应气体流量必须精确控制。PFEIFFER EVR116 能够提供必要的精度，以确保均匀、高质量的薄膜沉积。
科研与实验室应用： 在物理、化学、材料科学、生物技术等领域的真空实验中，如质谱仪、电子显微镜、超高真空（UHV）研究、表面分析和气体分析等，PFEIFFER EVR116 用于精确控制样品腔的气氛、引入校准气体或调节真空度，支持科研人员进行精确的实验操作。
分析仪器： 在各种真空分析仪器中，如气相色谱-质谱联用仪（GC-MS）、液相色谱-质谱联用仪（LC-MS）和残余气体分析仪（RGA）中，PFEIFFER EVR116 用于精确控制样品引入的气体流量或维持分析器内的稳定真空环境，确保分析结果的准确性和灵敏度。
工业真空热处理与钎焊： 在对金属材料进行真空热处理（如退火、淬火）或真空钎焊过程中，对炉内气氛和压力的精确控制是实现材料性能的关键。PFEIFFER EVR116 能够帮助维持所需的气体环境，确保热处理和钎焊的质量。
真空包装与食品加工： 在一些需要真空环境的包装和食品加工应用中，例如真空冷冻干燥或MAP（Modified Atmosphere Packaging），PFEIFFER EVR116 可以用于控制包装环境中的气体成分和压力，以延长产品保质期或改善产品质量。
相关产品
PFEIFFER EVR116 真空控制阀通常与Pfeiffer Vacuum的其他真空组件和控制系统协同工作，以构建完整的真空解决方案。
Pfeiffer Vacuum RVC 300：这是一款专为气体调节阀设计的控制单元，是 PFEIFFER EVR116 的主要配套产品。RVC 300提供多种控制模式（如压力控制、流量控制），并支持通过模拟信号和数字接口与EVR116进行通信，实现精确的自动化压力控制。
Pfeiffer Vacuum IF 200 Interface：这是 PFEIFFER EVR116 的一个可选接口模块，用于将EVR116的数字接口连接到RS232C通信。它简化了EVR116与PC或PLC的集成。
Pfeiffer Vacuum 压力计/真空规：为了实现闭环压力控制，PFEIFFER EVR116 必须与真空压力计（如Pfeiffer Vacuum的Pirani、Capacitance Diaphragm Gauges或Cold Cathode Gauges）配合使用。压力计提供实时的压力反馈信号给控制单元（如RVC 300），然后控制单元再根据设定值调节EVR116的开度。
Pfeiffer Vacuum 真空泵：PFEIFFER EVR116 通常安装在真空泵和真空腔室之间，用于控制气体进入或排出真空系统。普发真空提供各种类型的真空泵，包括涡轮分子泵、旋片泵、隔膜泵和干泵等。
Pfeiffer Vacuum 法兰和接头：由于EVR116采用DN 16 ISO-KF法兰，因此在安装时需要使用ISO-KF标准的中心环、夹具和O形圈等配件，以确保真空系统的密封性。
Pfeiffer Vacuum 真空室和管道：EVR116是真空系统中的一个组件，需要连接到真空室和真空管道，以构成完整的真空环境。
PFEIFFER EVR116
安装与维护
安装前准备：在安装 PFEIFFER EVR116 真空控制阀之前，请仔细阅读Pfeiffer Vacuum提供的安装和操作手册，以确保了解所有安全须知、技术要求和连接步骤。检查安装位置是否满足阀门的工作温度和清洁度要求。由于EVR116是真空组件，在处理时务必佩戴清洁、无尘手套，并使用清洁工具，避免裸手接触或引入灰尘和污染物，因为这会影响真空性能。确保连接法兰（DN 16 ISO-KF）和密封件（如O形圈和中心环）清洁无损，并准备好合适的夹具进行连接。在连接电气电源和控制信号线前，务必确认电源已断开，并遵循正确的接线图进行连接。
维护建议：为了确保 PFEIFFER EVR116 长期稳定可靠地运行，建议进行以下预防性维护：
- 定期检查密封件： 密封件（特别是FPM O形圈）是真空系统完整性的关键。根据使用频率和工艺条件，定期检查密封件是否有老化、裂纹或变形，必要时进行更换。
- 清洁维护： 定期检查阀门内部是否有积碳、颗粒物或其他沉积物，特别是对于在含有污染物的气体环境中使用的阀门。清洁时应使用适用于真空部件的专用清洁剂和无尘布，避免刮伤阀门表面。
- 功能测试： 定期对 PFEIFFER EVR116 进行功能测试，验证其开/关时间、最小/最大流量控制能力以及位置反馈是否正常。这可以通过与配套的RVC 300控制单元或测试设备进行通信来实现。
- 固件更新： 如果制造商发布了新的固件版本，考虑进行更新。新的固件可能包含性能改进、错误修复或新的功能。
- 备件管理： 备好常用备件，如滤网（如果使用）和O形圈，以备不时之需。如果阀门出现故障，建议联系Pfeiffer Vacuum或授权服务中心进行专业维修。在拆卸或安装时，务必注意保持真空洁净度。
产品保障
我们对 PFEIFFER EVR116 真空控制阀的卓越品质和可靠性充满信心，并为客户提供全面的产品保障。
